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Poudre de SiC nano à 99-99,99 % 10 000#, 20 000#, 30 000#

Poudre de SiC nano à 99-99,99 % 10 000 # 20 000 # 30 000 # désigne une poudre extra-fine dont la taille des particules est nanométrique. La pureté du SiC peut atteindre 99 % et 99,99 %. Le processus de production du carbure de silicium nano est différent de la méthode Acheson, mais il est synthétisé par des réactions chimiques. La poudre de SiC nano présente les caractéristiques d’une résistance élevée, d’une dureté élevée et d’une pureté élevée. Elle est largement utilisée dans les domaines des nanomatériaux, des poudres de broyage, des céramiques spéciales, des matériaux composites, etc.

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Poudre de SiC nano à 99-99,99 % 10 000#, 20 000#, 30 000#

Poudre de SiC nano à 99-99,99 % 10 000 # 20 000 # 30 000 # désigne une poudre extra-fine dont la taille des particules est nanométrique. La pureté du SiC peut atteindre 99 % et 99,99 %. Le processus de production du carbure de silicium nano est différent de la méthode Acheson, mais il est synthétisé par des réactions chimiques. La poudre de SiC nano présente les caractéristiques d’une résistance élevée, d’une dureté élevée et d’une pureté élevée. Elle est largement utilisée dans les domaines des nanomatériaux, des poudres de broyage, des céramiques spéciales, des matériaux composites, etc.

Caractéristiques de la poudre de SiC nano à 99-99,99 %
  1. Carbure de silicium de haute pureté. La pureté de la poudre de carbure de silicium nano est supérieure à 99 %, et le SiC de pureté de 99 % à 99,99 % est disponible avec une production personnalisée.
  2. La poudre de carbure de silicium nano a une haute précision et peut être produite de 30 nm à 500 nm.
  3. Des poudres SiC alpha et SiC bêta personnalisées sont disponibles selon les besoins.
  4. La poudre Nano SiC présente des propriétés chimiques stables et une résistance élevée à la corrosion à haute température et aux solvants alcalins acides.
  5. La poudre de carbure de silicium nano présente une dureté élevée et une résistance à l’usure supérieure.
  6. La poudre Nano SiC présente une bande interdite élevée, ainsi que des caractéristiques de champ électrique de claquage critique élevées et une conductivité thermique élevée.

 

Index technique de la poudre Nano SiC :
structure cristalline Cubique Hexagonal
Phase cristalline b un
Point de fusion 2700° 2400°
Température de décomposition 2830°±40° Dissociation à 2600°
Coefficient de dilatation thermique 2,5-7 x10 -6 /°C 7-9 x10 -6 /°C
Conductivité thermique 0,255 W/cmK 0,410 W/cmK
Dureté Mohs 9,5-9,75 9,4-9,5
Dureté Vickers (microdureté) 3300-3500kg/mm2 3200-3400kg/mm2
Intervalle de bande 2,2 eV 2,86 eV
Permittivité relative 9,72 e 9h66-10h03e
Mobilité des électrons >1000 460

 

Caractéristiques:

Spéc. Taille moyenne des particules Teneur en SiC Phrase Couleur
β-SiC50nm 50 nm 99% / 99,9% / 99,99% β-SiC Vert foncé
β-SiC80nm 80 nm 99% / 99,9% / 99,99% β-SiC Vert foncé
β-SiC150nm 150 nm 99% / 99,9% / 99,99% β-SiC Vert foncé
β-SiC500nm 500 nm 99% / 99,9% / 99,99% β-SiC Gris vert
β-SiC700nm 700 nm 99% / 99,9% / 99,99% β-SiC Gris vert
β-SiC800nm 800 nm 99% / 99,9% / 99,99% β-SiC Gris vert
β-SiC1um 1 um 99% / 99,9% / 99,99% β-SiC Vert
β-SiC3um 3um 99% / 99,9% / 99,99% β-SiC Vert
β-SiC5um 5um 99% / 99,9% / 99,99% β-SiC Vert
β-SiC8um 20 heures 99% / 99,9% / 99,99% β-SiC Vert
β-SiC10um 10 µm 99% / 99,9% / 99,99% β-SiC Vert
α-SiC500nm 500 nm 99% / 99,9% α-SiC Gris vert
α-SiC700nm 700 nm 99% / 99,9% α-SiC Gris vert
α-SiC800nm 800 nm 99% / 99,9% α-SiC Gris vert
α-SiC1um 1 um 99% / 99,9% α-SiC Vert jaune
α-SiC3um 3um 99% / 99,9% α-SiC Vert jaune
α-SiC5um 5um 99% / 99,9% α-SiC Vert jaune
α-SiC8um 20 heures 99% / 99,9% α-SiC Vert jaune
α-SiC10um 10 µm 99% / 99,9% α-SiC Vert jaune

 

*D’autres spécifications personnalisées sont disponibles sur demande.

 

Scénarios d’application :
  1. Poudres de meulage et de polissage avancées, notamment dans l’industrie des semi-conducteurs.
  2. Matériaux nano-composites tels que résines modifiées, revêtements en carbure de silicium nano, etc.
  3. Supercondensateurs.
  4. Catalyseurs et matériaux absorbants
  5. Matériaux d’impression 3D
  6. Matériaux réfractaires à hautes performances
  7. Matériaux céramiques industriels avancés spéciaux
  8. Semi-conducteurs à large bande interdite de troisième génération

 

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